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時間︰2023年07月06日 16:15:15 中財網

　　
　　根據 DigiTimes 報道，ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機。

　　消息稱如果該項目繼續推進，、華虹等中國半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。



　　消息稱 ASML

　　圖源 ASML消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造，而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在本次官方禁令範圍內。

　　1980Di 是 ASML 現有效率比較低的光刻機，支持 NA 1.35 光學器件、分辨率可以達到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。

　　大多數晶圓廠使用 1980Di 光刻機，主要生產 14nm 及以上工藝芯片，很少使用其生產 7nm 芯片。


　　針對有媒體報道 ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機事宜，今日午後，ASML 向記者回應稱︰一直以來 ASML 都遵守所適用的法律條例，公司並沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。